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《Plasma Chemistry And Plasma Processing》杂志主要接收以下类型的文章：

工程技术-工程：化工领域的研究?：文章内容涵盖工程：化工领域的最新研究成果、技术革新和学术动态。

高质量学术论文?：杂志对文章质量要求较高，通常接收具有创新性和学术价值的研究成果。

投稿要求

内容要求：投稿的文章应涵盖物理与天体物理的关键主题，提供最新的研究进展和学术动态。

格式要求：投稿者需要遵循《Plasma Chemistry And Plasma Processing》杂志的投稿要求和格式规范，包括文章结构、引用格式等。

其他信息

《Plasma Chemistry And Plasma Processing》杂志出版周期：Quarterly，出版地区：UNITED STATES，语言：English。

该杂志属于中科院分区中大类学科物理与天体物理领域的3区，小类学科ENGINEERING, CHEMICAL工程：化工领域的3区。小类学科PHYSICS, APPLIED物理：应用领域的3区。小类学科PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS物理：流体与等离子体领域的3区。

投稿咨询

在JCR分区中为Q2（ 按JIF指标学科分区学科为ENGINEERING, CHEMICAL，收录子集：SCIE，位于Q3区，排名91 / 170，百分位46.8%；PHYSICS, APPLIED，收录子集：SCIE，位于Q2区，排名81 / 179，百分位55%；PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，收录子集：SCIE，位于Q2区，排名12 / 40，百分位71.3%； 按JCI指标学科分区在学科为ENGINEERING, CHEMICAL，收录子集：SCIE，位于Q2区，排名55 / 171，百分位68.13%PHYSICS, APPLIED，收录子集：SCIE，位于Q2区，排名69 / 179，百分位61.73%PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，收录子集：SCIE，位于Q2区，排名17 / 40，百分位58.75% ）。

目前是未开放获取期刊（OA） ，审稿周期预计为：平均审稿速度为 较慢,6-12周 ，影响因子指数2.6。

该杂志创刊至今，在物理与天体物理-工程：化工领域，影响力非凡，对来稿文章质量要求很高，稿件投稿过审难度很大，刊登文章的学术水平和编辑质量在同类杂志中均名列前茅。如果你想在该杂志上发表论文，你可以向编辑部提交文章，但文章必须具有重要意义并代表该领域专业的发展。我们欢迎广大同领域的研究者提交投稿。

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