根据最新信息《Plasma Chemistry And Plasma Processing》期刊在JCR分区中的排名如下：
按JIF指标学科分区学科为ENGINEERING, CHEMICAL，收录子集：SCIE，位于Q3区，排名91 / 170，百分位46.8%；PHYSICS, APPLIED，收录子集：SCIE，位于Q2区，排名81 / 179，百分位55%；PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，收录子集：SCIE，位于Q2区，排名12 / 40，百分位71.3%；按JCI指标学科分区在学科为ENGINEERING, CHEMICAL，收录子集：SCIE，位于Q2区，排名55 / 171，百分位68.13%PHYSICS, APPLIED，收录子集：SCIE，位于Q2区，排名69 / 179，百分位61.73%PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，收录子集：SCIE，位于Q2区，排名17 / 40，百分位58.75%。
投稿咨询| 按JIF指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
| 学科：ENGINEERING, CHEMICAL | SCIE | Q3 | 91 / 170 |
46.8% |
| 学科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 81 / 179 |
55% |
| 学科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q2 | 12 / 40 |
71.3% |
| 按JCI指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
| 学科：ENGINEERING, CHEMICAL | SCIE | Q2 | 55 / 171 |
68.13% |
| 学科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 69 / 179 |
61.73% |
| 学科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q2 | 17 / 40 |
58.75% |
这表明该刊在工程：化工领域具有较高的学术影响力和认可度。此外，该刊创刊时间：1981年，影响因子：2.6，出版周期：Quarterly、出版商：Springer US以及收录情况等信息也为其学术影响力提供了有力支持。
影响因子：是汤森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引证报告(Journal Citation Reports,JCR)中的一项数据，现已成为国际上通用的期刊评价指标，不仅是一种测度期刊有用性和显示度的指标，而且也是测度期刊的学术水平，乃至论文质量的重要指标。
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