根据最新信息《Radiophysics And Quantum Electronics》期刊在JCR分区中的排名如下：
按JIF指标学科分区学科为ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC，收录子集：SCIE，位于Q4区，排名301 / 352，百分位14.6%；PHYSICS, APPLIED，收录子集：SCIE，位于Q4区，排名165 / 179，百分位8.1%；PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，收录子集：SCIE，位于Q4区，排名37 / 40，百分位8.8%；按JCI指标学科分区在学科为ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC，收录子集：SCIE，位于Q4区，排名307 / 354，百分位13.42%PHYSICS, APPLIED，收录子集：SCIE，位于Q4区，排名160 / 179，百分位10.89%PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，收录子集：SCIE，位于Q4区，排名39 / 40，百分位3.75%。
投稿咨询| 按JIF指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
| 学科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q4 | 301 / 352 |
14.6% |
| 学科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 165 / 179 |
8.1% |
| 学科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q4 | 37 / 40 |
8.8% |
| 按JCI指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
| 学科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q4 | 307 / 354 |
13.42% |
| 学科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 160 / 179 |
10.89% |
| 学科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q4 | 39 / 40 |
3.75% |
这表明该刊在工程：电子与电气领域具有较高的学术影响力和认可度。此外，该刊创刊时间：1965年，影响因子：0.8，出版周期：Monthly、出版商：Springer US以及收录情况等信息也为其学术影响力提供了有力支持。
影响因子：是汤森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引证报告(Journal Citation Reports,JCR)中的一项数据，现已成为国际上通用的期刊评价指标，不仅是一种测度期刊有用性和显示度的指标，而且也是测度期刊的学术水平，乃至论文质量的重要指标。
声明：以上信息摘自网络公开资料，如有不准确，请联系我们。
