《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》杂志社的通讯方式如下：SPIE-SOC PHOTOPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS, 1000 20TH ST, PO BOX 10, BELLINGHAM, USA, WA, 98225。
本站可提供SCI投稿辅导服务，SCI检索，确保稿件信息安全保密，合乎学术规范，详情请咨询客服。
期刊简介：
《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》是一本由SPIE出版商出版的物理与天体物理学术期刊，国际简称为J MICRO-NANOLITH MEM，中文名称《微纳光刻技术杂志》。该刊自2007年创刊以来，一直以年度Quarterly形式出版。并被国际知名权威数据库SCIE收录。
该刊专注于工程：电子与电气及相关领域的前沿研究，致力于推动该领域新技术和新知识的传播与应用。它鼓励研究人员详细发表高质量的实验研究和理论成果，为学术交流提供高质量的平台。
该刊的平均审稿周期 较慢,6-12周 。自创刊以来， 《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》在工程：电子与电气领域一直具有很高的影响力，对稿件质量要求严格。
《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》杂志的影响因子为0，属于未开放OA期刊，Gold OA文章占比：7.69%。且被收录于国际知名权威数据库SCIE。
投稿咨询影响因子：是汤森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引证报告(Journal Citation Reports,JCR)中的一项数据，现已成为国际上通用的期刊评价指标，不仅是一种测度期刊有用性和显示度的指标，而且也是测度期刊的学术水平，乃至论文质量的重要指标。
声明：以上信息摘自网络公开资料，如有不准确，请联系我们。
