根据最新信息《Plasma Sources Science & Technology》期刊在JCR分区中的排名如下：
按JIF指标学科分区学科为PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，收录子集：SCIE，位于Q1区，排名6 / 40，百分位86.3%；按JCI指标学科分区在学科为PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，收录子集：SCIE，位于Q1区，排名6 / 40，百分位86.25%。
投稿咨询| 按JIF指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
| 学科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q1 | 6 / 40 |
86.3% |
| 按JCI指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
| 学科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q1 | 6 / 40 |
86.25% |
这表明该刊在物理：流体与等离子体领域具有较高的学术影响力和认可度。此外，该刊创刊时间：1992年，影响因子：3.3，出版周期：Bimonthly、出版商：IOP Publishing Ltd.以及收录情况等信息也为其学术影响力提供了有力支持。
影响因子：是汤森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引证报告(Journal Citation Reports,JCR)中的一项数据，现已成为国际上通用的期刊评价指标，不仅是一种测度期刊有用性和显示度的指标，而且也是测度期刊的学术水平，乃至论文质量的重要指标。
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