International Journal Of Applied Pattern Recognition SCIE
国际应用模式识别杂志杂志
JCR分区：Q4 预计审稿周期：
《International Journal Of Applied Pattern Recognition》是一本国际刊物，国际简称为INT J APPL PATTERN R，中文名称国际应用模式识别杂志。出版周期为。 《International Journal Of Applied Pattern Recognition》2023年影响因子为1.1，被收录于国际知名权威数据库SCIE。
- ISSN：2049-887X
- 研究方向：COMPUTER SCIENCE, ARTIFICIAL INTELLIGENCE
- 是否预警：否
- E-ISSN：2049-8888
- Gold OA文章占比：0.00%
- 语言：English
- 是否OA：未开放
- 影响因子：1.1
- 年发文量：4